測(cè)量低反射率（如深色陶瓷、炭黑涂層、某些聚合物）或低光學(xué)對(duì)比度表面是光學(xué)輪廓儀的常見挑戰(zhàn)。這些表面反射回探測(cè)器的光信號(hào)微弱，導(dǎo)致干涉條紋對(duì)比度差，信噪比低，難以準(zhǔn)確解算高度信息。ZYGO ZeGage Pro通過一系列硬件增強(qiáng)、參數(shù)優(yōu)化和先jin算法，為有效測(cè)量此類“難以看清"的表面提供了可行的解決方案。

1. 最大hua信號(hào)采集（硬件與設(shè)置層面）：

   
   

• 增強(qiáng)照明：使用設(shè)備可提供的最gao亮度檔位，或檢查并清潔光源及光路，確保最da光通量輸出。

  
  

• 優(yōu)化物鏡選擇：選擇數(shù)值孔徑（NA）較大的物鏡，以收集更大立體角范圍內(nèi)的散射光。有時(shí)低倍物鏡（如5X, 10X）因工作距離長(zhǎng)、景深大，能集成更多來自粗糙表面的散射光，反而比高倍鏡表現(xiàn)更好。

  
  

• 調(diào)整相機(jī)參數(shù)：增加相機(jī)的曝光（積分）時(shí)間，允許探測(cè)器積累更多光子。適當(dāng)提高相機(jī)的增益（但需注意會(huì)同時(shí)放大噪聲）。使用相機(jī)的最di讀出噪聲模式（如果可選）。

  
  

• 共聚焦模式優(yōu)先：如果設(shè)備配備共聚焦模式，應(yīng)優(yōu)先嘗試。共聚焦模式通過針孔抑制背景雜散光，能提升信噪比，尤其對(duì)于有一定散射的暗表面可能效果優(yōu)于標(biāo)準(zhǔn)VSI模式。

  
  

2. 提升信噪比與數(shù)據(jù)質(zhì)量（測(cè)量策略層面）：

   
   

• 多次掃描平均：這是最有xiao的手段之一。在每一點(diǎn)進(jìn)行多次（如8, 16, 32次）掃描并取平均，可以顯著抑制隨機(jī)噪聲，提高信噪比，代價(jià)是測(cè)量時(shí)間成比例增加。對(duì)于靜態(tài)樣品，這是值得的投入。

  
  

• 降低掃描速度：更慢的掃描速度允許相機(jī)在每個(gè)位置有更長(zhǎng)的積分時(shí)間，并減少運(yùn)動(dòng)帶來的動(dòng)態(tài)模糊。

  
  

• 優(yōu)化掃描范圍與步長(zhǎng)：精確設(shè)置掃描范圍，使其剛好覆蓋表面起伏，避免掃描不必要的空氣區(qū)域，減少無效數(shù)據(jù)采集時(shí)間。

  
  

3. 信號(hào)處理與算法增強(qiáng)（軟件層面）：

   
   

• 先jin的相位解調(diào)算法：針對(duì)低對(duì)比度信號(hào)，采用對(duì)噪聲不敏感、魯棒性更強(qiáng)的相位解調(diào)算法（如Hilbert變換、同步檢測(cè)等），提高在弱信號(hào)條件下解算相位的準(zhǔn)確性。

  
  

• 智能信號(hào)識(shí)別：算法能夠?qū)W習(xí)背景噪聲特征，更好地從噪聲中識(shí)別出真實(shí)的干涉信號(hào)包絡(luò)。

  
  

• 后期數(shù)據(jù)處理濾波：測(cè)量后，應(yīng)用適當(dāng)?shù)目臻g濾波（如中值濾波、高斯濾波）來平滑數(shù)據(jù)，但需謹(jǐn)慎避免過度平滑損失真實(shí)特征。

  
  

4. 樣品準(zhǔn)備輔助方案（最后手段）：

   
   

• 在允許且不影響測(cè)量目的的前提下，可在樣品表面噴涂一層極薄的提高反射率的材料。zui常用的是噴金（用于SEM觀察的噴金儀，時(shí)間極短），形成幾個(gè)納米厚的金層，可大幅提高導(dǎo)電性和反射率，且對(duì)微米級(jí)形貌影響極小。也可使用白色顯像劑。但必須明確：此方法改變了原始表面，測(cè)量的是涂層形貌，僅適用于形貌（非化學(xué)成分）分析，且需在報(bào)告中注明。

  
  

ZYGO 應(yīng)對(duì)低對(duì)比度與低反射率表面