布魯克光學(xué)輪廓儀操作流程與日常維護(hù)規(guī)范

1. 開機準(zhǔn)備：檢查電源電壓（220V/50Hz）與環(huán)境溫濕度（推薦20-25℃，40-60%RH），打開設(shè)備總電源，等待3分鐘初始化控制系統(tǒng)。啟動配套軟件，確認(rèn)光學(xué)系統(tǒng)、運動平臺狀態(tài)顯示“就緒"。

   
   

2. 樣品裝載：松開樣品平臺固定旋鈕，將樣品輕置于微晶玻璃基板上。對于不規(guī)則樣品，可使用真空吸附夾具固定（需提前開啟真空泵）。通過軟件預(yù)覽光學(xué)圖像，調(diào)節(jié)平臺X/Y軸位置，使樣品待測區(qū)域居中。

   
   

3. 參數(shù)設(shè)置：根據(jù)樣品特性選擇測量模式（如“高反射"“低反射"），設(shè)置掃描范圍（Z軸高度）與分辨率（如0.5μm像素間距）。點擊“自動聚焦"，設(shè)備將通過干涉條紋對比度優(yōu)化Z軸位置。

   
   

4. 數(shù)據(jù)采集與分析：啟動掃描后，軟件實時顯示三維形貌預(yù)覽圖。掃描完成后，可導(dǎo)出RAW、PLY或CSV格式數(shù)據(jù)，使用配套分析軟件測量粗糙度（Ra/Rz）、臺階高度、曲率半徑等參數(shù)。

   
   

5. 關(guān)機與歸位：測量結(jié)束后，將Z軸升至最高位，關(guān)閉光學(xué)光源，退出軟件并切斷總電源。長期停機（＞7天）時，需用防塵布覆蓋設(shè)備，避免灰塵附著光學(xué)鏡片。

   
   

• 清潔：每日用干燥軟毛刷清理樣品平臺表面顆粒；每周用無水乙醇（分析純）擦拭光學(xué)窗口與物鏡（避免用力按壓），去除指紋或油污；每月清潔散熱風(fēng)扇濾網(wǎng)（位于設(shè)備背部），防止灰塵堆積影響散熱。

  
  

• 校準(zhǔn)：每季度使用標(biāo)準(zhǔn)臺階樣件（如NIST認(rèn)證的10μm臺階片）驗證測量精度，若偏差超過±1%，需聯(lián)系工程師重新校準(zhǔn)Z軸與物鏡倍率。

  
  

• 環(huán)境監(jiān)控：避免設(shè)備暴露在強磁場（＞100Gauss）或強振動源（如離心機）附近，實驗室需配備穩(wěn)壓電源（波動＜±5%），防止電壓不穩(wěn)損壞電子元件。