在材料科學(xué)與納米技術(shù)不斷突破的當(dāng)下，科研人員對(duì)微觀形貌的三維分析需求愈發(fā)迫切。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100，憑借出色的成像能力與豐富功能，成為探索微觀世界的得力助手。

產(chǎn)品細(xì)節(jié)與性能

OLS5100采用落地式穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，機(jī)身尺寸約800mm×600mm×1200mm，重量120kg，底部配備防震腳墊，有效減少外界振動(dòng)對(duì)成像的干擾，確保在復(fù)雜環(huán)境中也能獲得穩(wěn)定清晰的圖像。其核心光源為405nm半導(dǎo)體激光，相較于傳統(tǒng)可見光光源，短波長特性賦予了顯微鏡更高的橫向分辨率，最小可分辨尺寸達(dá)0.12μm，縱向分辨率達(dá)10nm，能清晰捕捉納米級(jí)表面起伏，如薄膜的島狀結(jié)構(gòu)、金屬表面的納米劃痕等細(xì)微特征。

設(shè)備集成激光共聚焦模塊與光學(xué)成像模塊，支持2D成像與3D掃描模式切換，滿足不同實(shí)驗(yàn)需求。側(cè)面預(yù)留拉曼光譜儀、原子力顯微鏡等擴(kuò)展接口，可實(shí)現(xiàn)多技術(shù)聯(lián)用，拓展了設(shè)備的應(yīng)用范圍。樣品臺(tái)為電動(dòng)平移結(jié)構(gòu)，行程150mm×150mm，承重5kg，支持X/Y/Z軸自動(dòng)對(duì)焦與掃描，定位精度達(dá)0.1μm，能夠?qū)崿F(xiàn)樣品的全自動(dòng)三維掃描，大大提高了實(shí)驗(yàn)效率。

用材考究

核心光學(xué)部件選用高透光率石英玻璃，配合多層鍍膜技術(shù)，有效減少激光能量損失與雜散光干擾，確保成像質(zhì)量。樣品臺(tái)臺(tái)面采用耐磨陶瓷材質(zhì)，表面平整度誤差小于2μm，既抗腐蝕又耐高溫，可配合加熱樣品臺(tái)使用，最高溫度達(dá)500℃，適用于各種惡劣環(huán)境下的樣品觀察。內(nèi)部機(jī)械傳動(dòng)部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機(jī)，保障長期使用后的運(yùn)動(dòng)精度，減少部件磨損帶來的掃描偏差。

參數(shù)表與型號(hào)

OLS5100提供多種型號(hào)，如OLS5100-SAF、OLS5100-SMF等，可根據(jù)不同實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景和需求進(jìn)行選擇。

用途廣泛

在納米材料研發(fā)中，可觀察納米顆粒的分散狀態(tài)、納米管的排列結(jié)構(gòu)；在薄膜科學(xué)研究中，測(cè)量薄膜的厚度均勻性、表面粗糙度，分析沉積工藝對(duì)薄膜性能的影響；在生物材料研究中，觀察細(xì)胞在支架表面的黏附形態(tài)、生物涂層的三維結(jié)構(gòu)；在金屬材料研究中，分析金屬疲勞后的納米級(jí)裂紋擴(kuò)展、腐蝕產(chǎn)物的微觀形貌。

使用說明

使用前，將設(shè)備放置在恒溫恒濕的科研實(shí)驗(yàn)室中，安裝在光學(xué)防震平臺(tái)上，遠(yuǎn)離強(qiáng)磁場(chǎng)與強(qiáng)電場(chǎng)。打開設(shè)備電源，預(yù)熱30分鐘，同時(shí)啟動(dòng)激光校準(zhǔn)程序。樣品制備需符合共聚焦測(cè)量要求：導(dǎo)電性樣品需清潔表面氧化層；絕緣樣品無需特殊處理，但需確保表面干燥；納米級(jí)樣品需固定在專用樣品座上。將樣品放置在電動(dòng)樣品臺(tái)上，關(guān)閉樣品室門，通過觸控屏設(shè)置掃描參數(shù)，選擇“3D掃描"模式。啟動(dòng)掃描后，系統(tǒng)自動(dòng)完成對(duì)焦與數(shù)據(jù)采集，實(shí)時(shí)顯示三維形貌重構(gòu)過程。掃描完成后，利用配套軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，保存原始數(shù)據(jù)與分析報(bào)告。