在科技不斷進(jìn)步的今天，微觀世界的奧秘吸引著眾多科研與工業(yè)檢測人員的探索。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100，以其獨特的技術(shù)優(yōu)勢，為微觀分析開啟了新的篇章。

產(chǎn)品細(xì)節(jié)：創(chuàng)新設(shè)計潮流

OLS5100采用優(yōu)良的X - Y掃描振鏡技術(shù)，將采用電磁感應(yīng)MEMS諧振掃描儀的X軸與采用Galvano掃描振鏡的Y軸相結(jié)合，讓X - Y掃描儀定位于相對物鏡瞳鏡共軛的位置，實現(xiàn)具有較低掃描軌跡失真和較小光學(xué)像差的X - Y掃描。這種創(chuàng)新設(shè)計，使得設(shè)備在掃描過程中能夠更準(zhǔn)確地捕捉樣品的微觀信息，為后續(xù)的分析提供可靠的數(shù)據(jù)基礎(chǔ)。

產(chǎn)品性能：觀測與分析能力

OLS5100具備出色的三維成像能力，能夠捕捉任意表面形狀。其掃描算法既可提高數(shù)據(jù)質(zhì)量又可提高速度，從而縮短掃描時間，簡化工作流程，提升生產(chǎn)力。設(shè)備支持非接觸、非破壞的觀察方式，僅需按下“Start（開始）"按鈕，用戶就能在亞微米級進(jìn)行精細(xì)的形貌測量。對于需要觀察大型樣品的客戶，LEXT的長工作距離物鏡和選配的擴(kuò)展機(jī)架使得系統(tǒng)能夠適用于高達(dá)210mm的樣本。

用材精良：保障設(shè)備的長期穩(wěn)定運行

核心光學(xué)部件選用高透光率石英玻璃，配合多層鍍膜技術(shù)，減少激光能量損失與雜散光干擾。樣品臺臺面采用耐磨陶瓷材質(zhì)，表面平整度誤差小于2μm，抗腐蝕且耐高溫。內(nèi)部機(jī)械傳動部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機(jī)，保障長期使用后的運動精度。這些優(yōu)質(zhì)的材料選擇，確保了設(shè)備在長時間的使用過程中能夠保持穩(wěn)定的性能，為用戶提供可靠的觀測結(jié)果。

參數(shù)表：全面了解設(shè)備的關(guān)鍵指標(biāo)

型號豐富：滿足不同應(yīng)用場景

OLS5100提供多種型號，如OLS5100 - SAF、OLS5100 - LAF等。OLS5100 - SAF適用于對精度要求較高的半導(dǎo)體檢測等領(lǐng)域，其高分辨率和精準(zhǔn)的測量能力能夠滿足芯片表面微結(jié)構(gòu)的分析需求；OLS5100 - LAF則更適合大型機(jī)械零件的粗糙度分析，其較大的樣品容納空間和長工作距離物鏡，能夠方便地對大型樣品進(jìn)行觀測和測量。

用途多元：科研與工業(yè)的雙重助力

在納米材料研發(fā)中，OLS5100可觀察納米顆粒的分散狀態(tài)，為材料的性能優(yōu)化提供依據(jù)；在薄膜科學(xué)研究中，測量薄膜的厚度均勻性和表面粗糙度，幫助研究人員改進(jìn)沉積工藝；在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，觀察細(xì)胞在支架表面的黏附形態(tài)，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的研究提供重要信息；在金屬材料研究中，分析金屬疲勞后的納米級裂紋擴(kuò)展，為材料的壽命評估和改進(jìn)提供數(shù)據(jù)支持。

使用說明：簡單便捷的操作體驗

使用前，將設(shè)備放置在穩(wěn)定的工作環(huán)境中，連接電源與相關(guān)配件。打開設(shè)備電源，進(jìn)行預(yù)熱與激光校準(zhǔn)。樣品制備需符合共聚焦測量要求，確保樣品表面清潔、干燥。將樣品放置在樣品臺上，通過操作界面設(shè)置掃描參數(shù)，如掃描范圍、分辨率、掃描速度等。選擇合適的掃描模式，啟動掃描后，設(shè)備自動完成數(shù)據(jù)采集與處理。掃描完成后，利用配套軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，計算所需參數(shù)，生成檢測報告。