在材料科學(xué)與納米技術(shù)飛速發(fā)展的今天，微觀(guān)形貌的精細(xì)分析成為推動(dòng)研究進(jìn)步的關(guān)鍵。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100，憑借其獨(dú)特的設(shè)計(jì)與優(yōu)良技術(shù)，為科研人員打開(kāi)了一扇觀(guān)察微觀(guān)世界的新窗口。

產(chǎn)品細(xì)節(jié)：匠心獨(dú)運(yùn)的設(shè)計(jì)

OLS5100采用落地式穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，機(jī)身尺寸約800mm×600mm×1200mm，重量達(dá)120kg，底部配備防震腳墊，有效減少外界振動(dòng)對(duì)成像的干擾。操作界面為15英寸觸控屏，搭配鼠標(biāo)、鍵盤(pán)接口，支持多用戶(hù)賬戶(hù)管理，可保存不同研究人員的操作參數(shù)與分析模板。樣品臺(tái)為電動(dòng)平移結(jié)構(gòu)，行程150mm×150mm，承重5kg，支持X/Y/Z軸自動(dòng)對(duì)焦與掃描，定位精度達(dá)0.1μm，實(shí)現(xiàn)樣品的全自動(dòng)三維掃描。設(shè)備集成激光共聚焦模塊與光學(xué)成像模塊，可切換2D成像與3D掃描模式；側(cè)面預(yù)留拉曼光譜儀、原子力顯微鏡等擴(kuò)展接口，滿(mǎn)足多技術(shù)聯(lián)用需求。

產(chǎn)品性能：多維度的觀(guān)測(cè)能力

OLS5100采用405nm半導(dǎo)體激光光源，縱向分辨率達(dá)10nm，橫向分辨率達(dá)100nm，能清晰捕捉納米級(jí)表面起伏，如薄膜的島狀結(jié)構(gòu)、金屬表面的納米劃痕。設(shè)備支持多種掃描模式：快速掃描（幀率10幀/秒）適合初步觀(guān)察，精細(xì)掃描（分辨率4096×4096像素）適合高分辨率三維重構(gòu)。其3D分析功能豐富，可計(jì)算表面粗糙度（Ra、Rz）、體積、臺(tái)階高度、孔隙率等參數(shù)，數(shù)據(jù)可直接導(dǎo)出至Origin、Matlab等軟件進(jìn)行進(jìn)一步分析。測(cè)量過(guò)程中數(shù)據(jù)重復(fù)性較好，相同條件下多次掃描的三維形貌偏差小于5%，為科研提供可靠數(shù)據(jù)支持。

用材考究：品質(zhì)與耐用性的保障

核心光學(xué)部件選用高透光率石英玻璃，配合多層鍍膜技術(shù)，減少激光能量損失與雜散光干擾，確保成像質(zhì)量。樣品臺(tái)臺(tái)面采用耐磨陶瓷材質(zhì)，表面平整度誤差小于2μm，既抗腐蝕又耐高溫（可配合加熱樣品臺(tái)使用，最高溫度500℃）。內(nèi)部機(jī)械傳動(dòng)部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機(jī)，保障長(zhǎng)期使用后的運(yùn)動(dòng)精度，減少部件磨損帶來(lái)的掃描偏差。設(shè)備外殼采用冷軋鋼板，表面經(jīng)過(guò)防靜電噴涂處理，能抵抗實(shí)驗(yàn)室常見(jiàn)化學(xué)試劑的腐蝕，同時(shí)減少靜電對(duì)電子元件的影響。

參數(shù)表：全面了解設(shè)備性能

型號(hào)選擇：滿(mǎn)足多樣化需求

OLS5100提供多種型號(hào)，如OLS5100-SAF、OLS5100-SMF、OLS5100-LAF等。OLS5100-SAF適用于半導(dǎo)體晶圓表面檢測(cè)，總倍率范圍54× - 17280×，視場(chǎng)16μm - 5120μm；OLS5100-LAF則針對(duì)大型機(jī)械零件粗糙度分析，最大樣品高度可達(dá)210mm，滿(mǎn)足不同領(lǐng)域與場(chǎng)景的需求。

用途廣泛：科研與工業(yè)的得力助手

在納米材料研發(fā)中，OLS5100可觀(guān)察納米顆粒的分散狀態(tài)、納米管的排列結(jié)構(gòu)；在薄膜科學(xué)研究中，測(cè)量薄膜的厚度均勻性、表面粗糙度，分析沉積工藝對(duì)薄膜性能的影響；在生物材料研究中，觀(guān)察細(xì)胞在支架表面的黏附形態(tài)、生物涂層的三維結(jié)構(gòu)；在金屬材料研究中，分析金屬疲勞后的納米級(jí)裂紋擴(kuò)展、腐蝕產(chǎn)物的微觀(guān)形貌。

使用說(shuō)明：簡(jiǎn)單易上手的操作流程

使用前，將設(shè)備放置在恒溫恒濕的科研實(shí)驗(yàn)室中（溫度波動(dòng)<±1℃/小時(shí)），安裝在光學(xué)防震平臺(tái)上，遠(yuǎn)離強(qiáng)磁場(chǎng)與強(qiáng)電場(chǎng)。打開(kāi)設(shè)備電源，預(yù)熱30分鐘，同時(shí)啟動(dòng)激光校準(zhǔn)程序，確保激光光路穩(wěn)定。樣品制備需符合共聚焦測(cè)量要求：導(dǎo)電性樣品需清潔表面氧化層；絕緣樣品無(wú)需特殊處理，但需確保表面干燥；納米級(jí)樣品需固定在專(zhuān)用樣品座上，避免掃描時(shí)移動(dòng)。將樣品放置在電動(dòng)樣品臺(tái)上，關(guān)閉樣品室門(mén)，通過(guò)觸控屏設(shè)置掃描參數(shù)（如掃描范圍、分辨率、掃描速度），選擇“3D掃描"模式。啟動(dòng)掃描后，系統(tǒng)自動(dòng)完成對(duì)焦與數(shù)據(jù)采集，實(shí)時(shí)顯示三維形貌重構(gòu)過(guò)程。掃描完成后，利用配套軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)分析（如計(jì)算表面粗糙度、提取臺(tái)階高度），并保存原始數(shù)據(jù)與分析報(bào)告。實(shí)驗(yàn)結(jié)束后，關(guān)閉激光光源，待設(shè)備冷卻后關(guān)閉電源，清潔樣品臺(tái)與樣品室。每周清潔光學(xué)鏡頭與激光出射口，每3個(gè)月請(qǐng)專(zhuān)業(yè)人員校準(zhǔn)激光光路與掃描精度。