在材料科學、生物學、地質(zhì)學等領域的微觀研究中，臺式掃描電子顯微鏡憑借小巧的體型和實用的性能，成為實驗室的重要工具。ZEM20 臺式掃描電子顯微鏡以其緊湊的設計和穩(wěn)定的觀察能力，為科研人員提供了便捷的微觀形貌分析解決方案。
產(chǎn)品細節(jié)：緊湊設計兼顧操作便利
ZEM20 的機身采用一體化鋼架結構，整體尺寸適中，占地面積約為 0.5 平方米，可輕松放置在實驗室的普通工作臺上，無需專門的大型安裝空間。設備外殼采用冷軋鋼板制成，表面經(jīng)過防靜電處理，能有效減少外界電磁干擾對內(nèi)部電子系統(tǒng)的影響。
樣品室位于設備前部，采用側開式設計，最大可容納直徑 50mm、高度 20mm 的樣品，滿足多數(shù)常規(guī)樣品的觀察需求。樣品臺為電動三維移動臺，支持 X、Y、Z 方向的精確移動，移動范圍分別為 50mm、50mm、25mm，操作手柄位于樣品室旁，調(diào)節(jié)順暢且定位準確。
電子光學系統(tǒng)是核心部件，由電子槍、聚光鏡、物鏡等組成，集成在設備上部的密封腔體內(nèi)。觀察窗口配備高分辨率顯示屏，可實時顯示樣品的微觀圖像，屏幕下方設有操作按鍵，包括放大倍數(shù)調(diào)節(jié)、亮度對比度調(diào)整等常用功能，布局清晰易懂。
設備后部設有多個接口，包括數(shù)據(jù)輸出接口、電源接口和真空系統(tǒng)接口，接口處均有防塵蓋保護，便于連接電腦、打印機等外部設備。真空系統(tǒng)采用內(nèi)置式設計，包括機械泵和分子泵，啟動后能快速達到觀察所需的真空度。
產(chǎn)品性能：穩(wěn)定成像支持多樣分析
ZEM20 的分辨率表現(xiàn)良好，在高真空模式下，二次電子像的分辨率可達 3nm，能清晰觀察到納米級別的微觀結構，如材料表面的顆粒分布、生物樣品的細胞細節(jié)等。放大倍數(shù)范圍為 20 倍至 10 萬倍，可根據(jù)觀察需求靈活調(diào)節(jié)，從宏觀形貌到微觀細節(jié)實現(xiàn)連續(xù)觀察。
設備的電子束流穩(wěn)定性較好，長時間觀察時圖像漂移較小，保證了成像的一致性，便于進行圖像拼接和定量分析。真空系統(tǒng)的抽氣速度較快，從大氣壓到高真空狀態(tài)所需時間約為 5 分鐘，縮短了樣品準備時間，提高了工作效率。
成像模式豐富，包括二次電子成像和背散射電子成像。二次電子成像適合觀察樣品表面的形貌特征，背散射電子成像則可用于分析樣品的成分分布差異，兩種模式可通過按鍵快速切換，滿足不同的分析需求。
用材、參數(shù)與用途
ZEM20 的關鍵部件選用耐用材料，電子槍燈絲采用鎢絲材質(zhì)，使用壽命較長，更換方便；物鏡和聚光鏡的鏡片采用光學玻璃制成，經(jīng)過多層鍍膜處理，減少電子束的反射損失；樣品臺表面覆蓋陶瓷涂層，耐高溫且不易劃傷。
部分參數(shù)如下：
該設備廣泛應用于材料科學、生物學、地質(zhì)學、電子工業(yè)等領域。在材料科學中，可觀察金屬材料的斷口形貌、高分子材料的相結構；生物學領域適用于觀察生物切片、微生物的表面形態(tài)；電子工業(yè)中用于檢測半導體芯片的表面缺陷和線路結構。
使用說明
使用前需檢查設備電源連接是否正常，打開主電源開關，讓設備預熱 30 分鐘，待電子槍和真空系統(tǒng)穩(wěn)定后再進行操作。將處理好的樣品用導電膠固定在樣品臺上，確保樣品與樣品臺良好接觸，防止充電影響成像質(zhì)量。
打開樣品室門，將樣品臺放入樣品室并固定，關閉樣品室門后，啟動真空系統(tǒng)，選擇合適的真空模式（高真空或低真空）。待真空度達到設定值后，通過操作手柄移動樣品臺，將觀察區(qū)域對準電子束照射位置。
在顯示屏上調(diào)節(jié)加速電壓、放大倍數(shù)、亮度和對比度，直至獲得清晰的圖像。觀察過程中，可通過數(shù)據(jù)輸出接口將圖像保存至電腦，或直接打印。觀察結束后，先降低加速電壓，關閉電子槍，再關閉真空系統(tǒng)，待樣品室氣壓恢復至大氣壓后，打開樣品室門取出樣品。
日常維護需定期清潔樣品室和樣品臺，每月檢查一次真空系統(tǒng)的密封性，每半年更換一次真空泵油，確保設備長期穩(wěn)定運行。
ZEM20 臺式掃描電子顯微鏡以其緊湊的設計、穩(wěn)定的成像性能和廣泛的用途，為微觀形貌分析提供了實用的解決方案，是實驗室進行微觀研究的得力工具。
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