奧林巴斯研究級正置式金相顯微鏡BX53M（明場）

是一款專為材料科學(xué)、金屬學(xué)、制造業(yè)和實驗室研究設(shè)計的高精度顯微鏡。它采用模塊化設(shè)計，具備多種觀察模式和靈活的配置選項，能夠滿足不同應(yīng)用場景的需求。以下是該顯微鏡的技術(shù)資料詳細(xì)介紹：

1. 光學(xué)系統(tǒng)

BX53M采用UIS2無限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng)，確保圖像清晰度和一致性。該系統(tǒng)支持反射光和透射光觀察，適用于多種材料的分析。顯微鏡的物鏡放大倍數(shù)包括5X、10X、20X、50X、100X等，用戶可根據(jù)需求選擇合適的物鏡組合，以實現(xiàn)從50X到1000X的總放大倍數(shù)。

2. 照明系統(tǒng)

BX53M配備了高亮度白光LED光源，具有超長使用壽命和穩(wěn)定的色溫，適合長時間觀察和分析。此外，顯微鏡還支持12V100W鹵素?zé)?/span>，提供更強的照明效果，適用于需要高對比度的觀察場景。用戶可以通過調(diào)節(jié)光強旋鈕，靈活控制照明強度，以適應(yīng)不同的樣品和觀察需求。

3. 觀察模式

BX53M支持多種觀察模式，包括：

• 明場觀察：用于常規(guī)的表面形貌分析。

• 暗場觀察：能夠檢測樣品表面的微弱反射信號，特別適用于缺陷檢測。

• 偏振光觀察：用于晶體結(jié)構(gòu)和礦物薄片的分析。

• 微分干涉對比（DIC） ：提供高對比度的三維圖像，增強細(xì)節(jié)的可見性。

• MIX組合式觀察：結(jié)合明場和暗場照明方法，突出缺陷并區(qū)分隆起與凹陷表面。

  
  

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4. 載物臺與調(diào)焦系統(tǒng)

BX53M配備了高精度XY平移機械載物臺，行程范圍廣泛，支持手動或電動操作，便于用戶快速定位樣品。調(diào)焦系統(tǒng)采用精密粗/微調(diào)焦機構(gòu)，帶防滑機構(gòu)和上限安全保護裝置，確保操作的安全性和穩(wěn)定性。顯微鏡的調(diào)焦行程為25mm至30mm，微調(diào)刻度為1μm，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的焦距調(diào)整。

5. 軟件與圖像處理

BX53M可與奧林巴斯Stream圖像分析軟件集成，提供強大的圖像處理功能。該軟件支持多種測量工具，如距離、角度、矩形、圓、橢圓和多邊形等，用戶可以輕松獲取圖像中的有用數(shù)據(jù)。此外，軟件還支持實時景深擴展（EFI）功能，能夠創(chuàng)建超景深圖像，便于結(jié)構(gòu)識別。用戶還可以通過高動態(tài)范圍（HDR）技術(shù)減少圖像中的眩光，提高圖像質(zhì)量。

6. 人性化設(shè)計

BX53M的設(shè)計注重用戶友好性，操作界面簡潔直觀，用戶無需深入培訓(xùn)即可掌握大部分功能。顯微鏡的控制面板布局合理，用戶可以根據(jù)自己的習(xí)慣選擇左右手操作模式。此外，顯微鏡還支持一鍵恢復(fù)功能，用戶可以預(yù)設(shè)并保存顯微鏡參數(shù)，方便后續(xù)的重復(fù)操作。

7. 應(yīng)用領(lǐng)域

BX53M廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、金屬學(xué)、制造業(yè)和實驗室研究等領(lǐng)域。它能夠幫助研究人員快速觀察和分析樣品的微觀形貌和組織結(jié)構(gòu)，適用于金相分析、晶體結(jié)構(gòu)分析、質(zhì)量控制和產(chǎn)品檢驗等任務(wù)。特別是在電子行業(yè)和機械精加工領(lǐng)域，BX53M因其高精度和多功能性而備受青睞。

8. 技術(shù)優(yōu)勢

• 高分辨率與高對比度：BX53M采用先進(jìn)的光學(xué)技術(shù)，確保圖像清晰銳利，能夠滿足各種材料的觀察和分析需求。

• 模塊化設(shè)計：用戶可以根據(jù)需求靈活配置顯微鏡，添加熒光、偏光、暗場等模塊，擴展顯微鏡的功能。

• 耐用性與可靠性：BX53M采用高質(zhì)量的光學(xué)元件和機械結(jié)構(gòu)，確保長期使用的穩(wěn)定性和可靠性。

奧林巴斯BX53M正置式金相顯微鏡（明場）是一款集成了多種先進(jìn)技術(shù)和人性化設(shè)計的顯微鏡，適用于廣泛的材料科學(xué)和工業(yè)應(yīng)用。其出色的光學(xué)性能、靈活的配置選項和強大的圖像處理功能，使其成為科研人員和工程師的理想選擇。

奧林巴斯研究級正置式金相顯微鏡BX53M（明場）