國產(chǎn)電子束光刻機實現(xiàn)自主可控，是實現(xiàn)我國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實驗室開展的全自主電子束光刻機整機的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目取得重大進展，成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，實現(xiàn)了電子束光刻機整機的自主可控，標志著國產(chǎn)電子束光刻機研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化邁出關(guān)鍵一步。

電子束光刻是利用聚焦電子束對某些高分子聚合物（電子束光刻膠）進行曝光并通過顯影獲得圖形的過程。而產(chǎn)生聚焦電子束并讓聚焦電子束按照設(shè)定的圖形掃描的儀器就叫做電子束光刻機。它是推動我們當(dāng)前新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域的重要手段之一。此前，全球電子束光刻機市場高度集中，主要由美日企業(yè)壟斷，我國尚未掌握該領(lǐng)域核心技術(shù)，裝備長期依賴進口。

為實現(xiàn)電子束光刻機的自主可控，澤攸科技多年來持續(xù)積累電子光學(xué)、微納技術(shù)、高壓源及電子源技術(shù)、真空系統(tǒng)、自動控制、數(shù)字圖像處理等多學(xué)科交叉核心技術(shù)，構(gòu)建了完整的技術(shù)體系，并推出了臺式掃描電鏡等多款熱銷電子束產(chǎn)品。2023年3月，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實驗室共同投資2400萬元，成立聯(lián)合工程中心，目標是打造集科研與產(chǎn)業(yè)化為一體的電子束裝備技術(shù)創(chuàng)新基地。通過深入開展電子束與新材料交叉領(lǐng)域的前沿技術(shù)研發(fā)，實現(xiàn)關(guān)鍵裝備和共性技術(shù)的自主可控，切實提升我國在電子束加工與制備領(lǐng)域的整體創(chuàng)新能力和產(chǎn)業(yè)競爭力。

目前，澤攸科技已基于自主研制的掃描電鏡主機，完成電子束光刻機工程樣機研制，并開展功能驗證工作。通過對測試樣片的曝光生產(chǎn)，可以繪制出高分辨率的復(fù)雜圖形，達到先進水平。該成果標志著澤攸科技在電子束光刻機關(guān)鍵技術(shù)和整機方面的自主創(chuàng)新能力獲得重大提升。下一步，澤攸科技將持續(xù)完善電子束光刻機的性能指標，使其達到批量應(yīng)用及產(chǎn)業(yè)化的要求。

相信在公司技術(shù)團隊的不懈努力下，澤攸科技自主研發(fā)的電子束光刻機整機必將加速實現(xiàn)量產(chǎn)和商業(yè)化應(yīng)用。這不僅將大幅降低國內(nèi)**芯片制造的裝備成本，還將打破國外企業(yè)的技術(shù)壁壘，使我國擁有自主可控的電子束光刻機技術(shù)，推動國產(chǎn)替代，切實保障國家信息安全。

以下是電子束光刻機部分應(yīng)用案例：